Ведущий производитель машин для печати чипов заявил, что ИИ будет влиять на производство ещё 10–15 лет

Глава ASML Кристоф Фуке считает, что влияние ИИ на полупроводниковую индустрию растянется на 10–15 лет. По его словам, рынок пока видит лишь верхушку айсберга.

Нидерландская ASML остаётся единственным в мире производителем EUV-литографов, без которых невозможно выпускать самые передовые чипы.

Дорожная карта ASML во многом определяет, насколько быстро и далеко сможет развиваться аппаратная база для ИИ. Рост спроса упирается сразу в несколько факторов – совершенствование оптики, переход к вертикальной компоновке микросхем и огромную сеть поставщиков, которую невозможно быстро масштабировать.

Одно из ключевых запланированных улучшений касается увеличенной апертуры зеркал в системах литографии в глубоком ультрафиолете (EUV). Чем больше апертура, тем точнее оборудование фокусирует EUV-излучение на кремниевой пластине. Это позволяет наносить более тонкие рисунки схем и открывает путь к будущим техпроцессам.

Параллельно ASML ожидает, что всё больше элементов микросхем будут строить вертикально, а не размещать на плоской поверхности. Многоярусные транзисторы и другие трёхмерные структуры дают производителям дополнительный способ повышать плотность и производительность в ситуации, когда дальнейшее уменьшение размеров элементов даётся всё сложнее.

Для ИИ-чипов такой подход особенно актуален, ведь им нужны высокая вычислительная мощность и быстрый доступ к памяти.

Кристоф Фуке, глава ASML:

Я думаю, что влияние ИИ на общество и индустрию займёт 10–15 лет. Мы видим лишь верхушку айсберга.

Из прогноза ASML следует, что ИИ формирует долгосрочную потребность в развитии полупроводникового производства, а не просто кратковременный всплеск спроса на ускорители. Этот спрос распространяется далеко за пределы процессоров и затрагивает производственное оборудование, технологии корпусирования, память, сетевое оборудование и инфраструктуру дата-центров для ИИ-нагрузок.

ASML находится в самом центре этой производственной цепочки. Ведущие контрактные производители полупроводников используют её EUV-системы для выпуска процессоров под ИИ-задачи.

Воспроизвести такую технологию крайне сложно. Одна EUV-установка стоит до 400 млн долларов и состоит из более чем 100 тысяч деталей, а по размерам сопоставима с двухэтажным автобусом. Для генерации излучения мощный лазер бьёт по каплям расплавленного олова, образующаяся плазма испускает EUV-свет, а система зеркал в вакууме направляет его на кремниевые пластины.

ASML опирается на широкий круг узкоспециализированных партнёров. Только для EUV-систем компания работает примерно с 200 основными поставщиками и около 2000 фирм в расширенной цепочке поставок.

Среди ключевых партнёров:

• Zeiss, поставщик критически важной оптики

• Trumpf, производитель лазеров

• VDL, разработчик мехатронных систем

В 2013 году ASML приобрела производителя лазеров Cymer, чтобы обеспечить себе контроль над одним из важнейших компонентов EUV-системы. При этом именно цепочка поставок ограничивает темпы наращивания выпуска. Нельзя просто вложить больше денег в сборочные заводы, так как для роста нужны высокоспециализированные компоненты, производственная экспертиза и поставщики, способные выдерживать жёсткие технические требования.

Кристоф Фуке, глава ASML, сказал:

Чем сложнее становились наши продукты... тем большее преимущество мы получали с точки зрения конкурентоспособности. Мы могли разрабатывать гораздо быстрее, чем кто-либо ещё.

Nikon и Canon, когда-то главные конкуренты ASML в литографии, по-прежнему сосредоточены на системах глубокого ультрафиолета (DUV). DUV-оборудование широко применяют в производстве чипов, однако для самых передовых техпроцессов нужен именно EUV.

Исключительное положение ASML сделало её технологии объектом экспортных ограничений. Компания не может продавать EUV-системы в Китай. Такая политика лишает китайских производителей доступа к самым передовым литографам, но одновременно подталкивает страну к созданию собственной цепочки поставок оборудования.

Фуке назвал Huawei важным участником китайских разработок DUV-оборудования. До создания альтернативы EUV Китаю пока далеко, но страна наращивает компетенции в DUV-системах, компонентах, материалах и других звеньях полупроводникового производства.

Китайский кварц чистотой 5N допустили к производству DRAM, но тигли по-прежнему делают только в США

Бывший глава ИИ в Google считает, что ИИ сократит команды разработки чипов со 150 инженеров до 10, а сроки – с двух лет до 3 месяцев

Кроме того, ASML приобрела 11% акций французского ИИ-разработчика Mistral AI. Инвестиция связывает компанию с европейским рынком ИИ-софта, хотя основной вклад ASML в ИИ-индустрию всё еще приходится на оборудование.

Для рынка чипов следующие разработки ASML значат не меньше, чем нынешние системы. Улучшенная EUV-оптика и вертикальная компоновка микросхем помогут индустрии и дальше наращивать производительность. Вместе с тем они повысят потребность в специализированном оборудовании и в цепочке поставок, способной успевать за спросом.